前 言

       為貫徹《中華人民共和國(guó)環(huán)境保護(hù)法》《中華人民共和國(guó)水污染防治法》《中華人民共和國(guó)海洋環(huán)境保護(hù)法》等法律、法規(guī)，防治環(huán)境污染，改善環(huán)境質(zhì)量，促進(jìn)電子工業(yè)的技術(shù)進(jìn)步和可持續(xù)發(fā)展，制定本標(biāo)準(zhǔn)。本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了電子工業(yè)企業(yè)、生產(chǎn)設(shè)施或研制線的水污染物排放控制要求、監(jiān)測(cè)要求和監(jiān)督管理要求。電子工業(yè)污水集中處理設(shè)施的水污染物排放管理也適用于本標(biāo)準(zhǔn)。電子工業(yè)企業(yè)、生產(chǎn)設(shè)施或研制線、電子工業(yè)污水集中處理設(shè)施排放大氣污染物（含惡臭污染物）、環(huán)境噪聲適用相應(yīng)的國(guó)家污染物排放標(biāo)準(zhǔn)，產(chǎn)生固體廢物的鑒別、處理和處置適用相應(yīng)的國(guó)家固體廢物污染控制標(biāo)準(zhǔn)。
本標(biāo)準(zhǔn)為首次發(fā)布。
       電子工業(yè)新建企業(yè)自 2021 年 7 月 1 日起，現(xiàn)有企業(yè)自 2024 年 1 月 1 日起，其水污染物排放控制按本標(biāo)準(zhǔn)的規(guī)定執(zhí)行，不再執(zhí)行《污水綜合排放標(biāo)準(zhǔn)》（GB 8978-1996）和《電鍍污染物排放標(biāo)準(zhǔn)》（GB 21900-2008）的相關(guān)規(guī)定。各地可根據(jù)當(dāng)?shù)厣鷳B(tài)環(huán)境保護(hù)需要和經(jīng)濟(jì)與技術(shù)條件，由地方省級(jí)人民政府批準(zhǔn)提前實(shí)施本標(biāo)準(zhǔn)。
       本標(biāo)準(zhǔn)是電子工業(yè)水污染物排放控制的基本要求。省級(jí)人民政府對(duì)本標(biāo)準(zhǔn)未作規(guī)定的項(xiàng)目，可以制定地方污染物排放標(biāo)準(zhǔn)；對(duì)本標(biāo)準(zhǔn)已作規(guī)定的項(xiàng)目，可以制定嚴(yán)于本標(biāo)準(zhǔn)的地方污染物排放標(biāo)準(zhǔn)。
本標(biāo)準(zhǔn)由生態(tài)環(huán)境部水生態(tài)環(huán)境司、法規(guī)與標(biāo)準(zhǔn)司組織制訂。
       本標(biāo)準(zhǔn)主要起草單位：中國(guó)電子工程設(shè)計(jì)院有限公司、生態(tài)環(huán)境部環(huán)境標(biāo)準(zhǔn)研究所、上海市環(huán)境科學(xué)研究院、深圳市環(huán)境監(jiān)測(cè)中心站、上海第二工業(yè)大學(xué)、中國(guó)電子電路行業(yè)協(xié)會(huì)、信息產(chǎn)業(yè)電子第十一設(shè)計(jì)研究院科技工程股份有限公司。
       本標(biāo)準(zhǔn)生態(tài)環(huán)境部 2020 年 11 月 26 日批準(zhǔn)。
       本標(biāo)準(zhǔn)自 2021 年 7 月 1 日起實(shí)施。
       本標(biāo)準(zhǔn)由生態(tài)環(huán)境部解釋。

電子工業(yè)水污染物排放標(biāo)準(zhǔn)
1 適用范圍
       本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了電子工業(yè)的水污染物排放控制要求、監(jiān)測(cè)要求和監(jiān)督管理要求。
       本標(biāo)準(zhǔn)適用于現(xiàn)有的電子工業(yè)企業(yè)、生產(chǎn)設(shè)施或研制線的水污染物排放管理，以及電子工業(yè)建設(shè)項(xiàng)目的環(huán)境影響評(píng)價(jià)、環(huán)境保護(hù)設(shè)施設(shè)計(jì)、竣工環(huán)境保護(hù)驗(yàn)收、排污許可證核發(fā)及其投產(chǎn)后的水污染物排放管理。
       電子工業(yè)污水集中處理設(shè)施的水污染物排放管理適用于本標(biāo)準(zhǔn)。
       本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定的水污染物排放控制要求適用于電子工業(yè)企業(yè)、電子工業(yè)污水集中處理設(shè)施直接或間接向其法定邊界外排放水污染物的行為。
2 規(guī)范性引用文件
本標(biāo)準(zhǔn)內(nèi)容引用了下列文件或其中的條款。凡是不注年份的引用文件，其最新版本適用于本標(biāo)準(zhǔn)。
       GB 6920 水質(zhì) pH值的測(cè)定 玻璃電極法
       GB 7466 水質(zhì) 總鉻的測(cè)定 高錳酸鉀氧化-二苯碳酰二肼分光光度法
       GB 7467 水質(zhì) 六價(jià)鉻的測(cè)定 二苯碳酰二肼分光光度法
       GB 7470 水質(zhì) 鉛的測(cè)定 雙硫腙分光光度法
       GB 7471 水質(zhì) 鎘的測(cè)定 雙硫腙分光光度法
       GB 7475 水質(zhì) 銅、鋅、鉛、鎘的測(cè)定 原子吸收分光光度法
       GB 7484 水質(zhì) 氟化物的測(cè)定 離子選擇電極法
       GB 7485 水質(zhì) 總砷的測(cè)定 二乙基二硫代氨基甲酸銀分光光度法
       GB 7494 水質(zhì) 陰離子表面活性劑的測(cè)定 亞甲藍(lán)分光光度法
       GB 11893 水質(zhì) 總磷的測(cè)定 鉬酸銨分光光度法
       GB 11900 水質(zhì) 痕量砷的測(cè)定 硼氫化鉀-硝酸銀分光光度法
       GB 11901 水質(zhì) 懸浮物的測(cè)定 重量法
       GB 11907 水質(zhì) 銀的測(cè)定 火焰原子吸收分光光度法
       GB 11910 水質(zhì) 鎳的測(cè)定 丁二酮肟分光光度法
       GB 11912 水質(zhì) 鎳的測(cè)定 火焰原子吸收分光光度法
       GB 15562.1 環(huán)境保護(hù)圖形標(biāo)志-排放口（源）
       GB/T 16489 水質(zhì) 硫化物的測(cè)定 亞甲基藍(lán)分光光度法
       HJ/T 60 水質(zhì) 硫化物的測(cè)定 碘量法
       HJ 91.1 污水監(jiān)測(cè)技術(shù)規(guī)范
       HJ/T 195 水質(zhì) 氨氮的測(cè)定 氣相分子吸收光譜法
       HJ/T 199 水質(zhì) 總氮的測(cè)定 氣相分子吸收光譜法2
       HJ/T 200 水質(zhì) 硫化物的測(cè)定 氣相分子吸收光譜法
       HJ/T 373 固定污染源監(jiān)測(cè)質(zhì)量保證與質(zhì)量控制技術(shù)規(guī)范（試行）
       HJ/T 399 水質(zhì) 化學(xué)需氧量的測(cè)定 快速消解分光光度法
       HJ 484 水質(zhì) 氰化物的測(cè)定 容量法和分光光度法
       HJ 485 水質(zhì) 銅的測(cè)定 二乙基二硫代氨基甲酸鈉分光光度法
       HJ 486 水質(zhì) 銅的測(cè)定 2，9-二甲基-1，10-菲啰啉分光光度法
       HJ 487 水質(zhì) 氟化物的測(cè)定 茜素磺酸鋯目視比色法
       HJ 488 水質(zhì) 氟化物的測(cè)定 氟試劑分光光度法
       HJ 489 水質(zhì) 銀的測(cè)定 3，5-Br2-PADAP分光光度法
       HJ 490 水質(zhì) 銀的測(cè)定 鎘試劑2B分光光度法
       HJ 493 水質(zhì) 采樣樣品的保存和管理技術(shù)規(guī)定
       HJ 494 水質(zhì) 采樣技術(shù)指導(dǎo)
       HJ 495 水質(zhì) 采樣方案設(shè)計(jì)技術(shù)指導(dǎo)
       HJ 501 水質(zhì) 總有機(jī)碳的測(cè)定 燃燒氧化-非分散紅外吸收法
       HJ 535 水質(zhì) 氨氮的測(cè)定 納氏試劑分光光度法
       HJ 536 水質(zhì) 氨氮的測(cè)定 水楊酸分光光度法
       HJ 537 水質(zhì) 氨氮的測(cè)定 蒸餾-中和滴定法
       HJ 636 水質(zhì) 總氮的測(cè)定 堿性過硫酸鉀消解紫外分光光度法
       HJ 637 水質(zhì) 石油類和動(dòng)植物油的測(cè)定 紅外分光光度法
       HJ 659 水質(zhì) 氰化物等的測(cè)定 真空檢測(cè)管-電子比色法
       HJ 665 水質(zhì) 氨氮的測(cè)定 連續(xù)流動(dòng)-水楊酸分光光度法
       HJ 666 水質(zhì) 氨氮的測(cè)定 流動(dòng)注射-水楊酸分光光度法
       HJ 667 水質(zhì) 總氮的測(cè)定 連續(xù)流動(dòng)-鹽酸萘乙二胺分光光度法
       HJ 668 水質(zhì) 總氮的測(cè)定 流動(dòng)注射-鹽酸萘乙二胺分光光度法
       HJ 670 水質(zhì) 磷酸鹽和總磷的測(cè)定 連續(xù)流動(dòng)-鉬酸銨分光光度法
       HJ 671 水質(zhì) 總磷的測(cè)定 流動(dòng)注射-鉬酸銨分光光度法
       HJ 694 水質(zhì) 汞、砷、硒、鉍和銻的測(cè)定 原子熒光法
       HJ 700 水質(zhì) 65種元素的測(cè)定 電感耦合等離子體質(zhì)譜法
       HJ 776 水質(zhì) 32種元素的測(cè)定 電感耦合等離子體發(fā)射光譜法
       HJ 823 水質(zhì) 氰化物的測(cè)定 流動(dòng)注射-分光光度法
       HJ 824 水質(zhì) 硫化物的測(cè)定 流動(dòng)注射-亞甲基藍(lán)分光光度法
       HJ 826 水質(zhì) 陰離子表面活性劑的測(cè)定 流動(dòng)注射-亞甲基藍(lán)分光光度法3
       HJ 828 水質(zhì) 化學(xué)需氧量的測(cè)定 重鉻酸鹽法
       HJ 908 水質(zhì) 六價(jià)鉻的測(cè)定 流動(dòng)注射-二苯碳酰二肼光度法
       HJ 1069 水質(zhì) 急性毒性的測(cè)定 斑馬魚卵法
《污染源自動(dòng)監(jiān)控管理辦法》（國(guó)家環(huán)境保護(hù)總局令 第28號(hào)）
《環(huán)境監(jiān)測(cè)管理辦法》（國(guó)家環(huán)境保護(hù)總局令 第39號(hào)）
《企業(yè)事業(yè)單位環(huán)境信息公開辦法》（環(huán)境保護(hù)部令 第31號(hào)）
《關(guān)于印發(fā)排放口標(biāo)志牌技術(shù)規(guī)格的通知》（環(huán)辦〔2003〕95號(hào)）
3 術(shù)語(yǔ)和定義

       下列術(shù)語(yǔ)和定義適用于本標(biāo)準(zhǔn)。
3.1 電子工業(yè) electronic industry
       本標(biāo)準(zhǔn)中電子工業(yè)指電子專用材料、電子元件、印制電路板、半導(dǎo)體器件、顯示器件及光電子器件、電子終端產(chǎn)品等六類電子產(chǎn)品制造業(yè)。
3.2 電子專用材料 special electronic material
       具有特定要求且僅用于電子產(chǎn)品的材料，不包括生產(chǎn)電子專用材料的原材料的生產(chǎn)制造。根據(jù)其作用與用途，可分為電子功能材料、互聯(lián)與封裝材料、工藝與輔助材料。具體產(chǎn)品范圍見附錄 A。
3.3 電子元件 electronic component
       電子電路中具有控制、變換和傳輸電壓或電流等獨(dú)立功能的單元。包括電阻器、電容器、電子變壓器、電感器、壓電晶體元器件、電子敏感元器件與傳感器、電接插元件、控制繼電器、微特電機(jī)與組件、電聲器件等。
3.4 印制電路板 printed circuit board（PCB）
       在絕緣基材上，按預(yù)定設(shè)計(jì)形成印制元件、印制線路或兩者結(jié)合的導(dǎo)電圖形的印制電路或印制線路成品板。包括剛性板與撓性板，又可分為單面印制電路板、雙面印制電路板、多層印制電路板，以及剛撓結(jié)合印制電路板和高密度互連（high density interconnector，HDI）印制電路板等。
3.5 半導(dǎo)體器件 semiconductor device
       利用半導(dǎo)體材料的特殊電特性制造的具有特定功能的電子器件。包括分立器件和集成電路兩大類產(chǎn)品。
3.6 顯示器件 display device
       基于電子手段呈現(xiàn)信息供視覺感受的器件。包括薄膜晶體管液晶顯示器件、低溫多晶硅薄膜晶體管液晶顯示器件、有機(jī)發(fā)光二極管顯示器件、真空熒光顯示器件、場(chǎng)發(fā)射顯示器件、等離子顯示器件、曲面顯示器件以及柔性顯示器件等。
3.7 光電子器件 photoelectronic device
       利用半導(dǎo)體光-電子（或電-光子）轉(zhuǎn)換效應(yīng)制成的各種功能器件。包括發(fā)光二極管；半導(dǎo)體光電器件中的光電轉(zhuǎn)換器、光電探測(cè)器等；激光器件中的氣體激光器件、半導(dǎo)體激光器件、固體激光器件、靜
電感應(yīng)器件等；光通信電路及其他器件；半導(dǎo)體照明器件等。
3.8 電子終端產(chǎn)品 electronic terminal product4
       以印制電路板組裝工藝技術(shù)為基礎(chǔ)裝配的具有獨(dú)立應(yīng)用功能的電子產(chǎn)品或組件。包括通信設(shè)備、雷達(dá)設(shè)備、廣播電視設(shè)備、電子計(jì)算機(jī)、視聽設(shè)備等。
3.9 現(xiàn)有企業(yè) existing facility
       本標(biāo)準(zhǔn)實(shí)施之日前已建成投產(chǎn)或環(huán)境影響評(píng)價(jià)文件已通過審批的電子工業(yè)企業(yè)、生產(chǎn)設(shè)施或研制線，以及電子工業(yè)污水集中處理設(shè)施。
3.10 新建企業(yè) new facility
       本標(biāo)準(zhǔn)實(shí)施之日起環(huán)境影響評(píng)價(jià)文件通過審批的新建、改建和擴(kuò)建電子工業(yè)或電子工業(yè)污水集中處
理設(shè)施建設(shè)項(xiàng)目。
3.11 直接排放 direct discharge
       排污單位直接向環(huán)境水體排放水污染物的行為。
3.12 間接排放 indirect discharge
       排污單位向污水集中處理設(shè)施排放水污染物的行為。
3.13 污水集中處理設(shè)施 concentrated wastewater treatment facilities
       為兩家及兩家以上排污單位提供污水處理服務(wù)的污水處理設(shè)施，包括各種規(guī)模和類型的城鎮(zhèn)污水集中處理設(shè)施、工業(yè)集聚區(qū)（經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)、高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)開發(fā)區(qū)、出口加工區(qū)等各類工業(yè)園區(qū)）污水集中處理設(shè)施，以及其他由兩家及兩家以上排污單位共用的污水處理設(shè)施等。
3.14 電子工業(yè)污水集中處理設(shè)施 concentrated wastewater treatment facilities for electronic industry
       專門為兩家及兩家以上電子工業(yè)排污單位提供污水處理服務(wù)的污水集中處理設(shè)施。
3.15 排水量 effluent volume
       企業(yè)或生產(chǎn)設(shè)施向企業(yè)法定邊界以外排放的廢水的量，包括與生產(chǎn)有直接或間接關(guān)系的各種外排廢水（含廠區(qū)生活污水、冷卻污水、廠區(qū)鍋爐排水等）。
3.16 單位產(chǎn)品基準(zhǔn)排水量 benchmark effluent volume per unit product
       用于核定水污染物排放濃度而規(guī)定的生產(chǎn)單位產(chǎn)品的排水量上限值。
3.17 稀釋倍數(shù) dilution level
       原水樣占稀釋后水樣總體積分?jǐn)?shù)的倒數(shù)，一般用 D 來表示。例如，水樣未稀釋，則稀釋倍數(shù) D=1；取 250ml 水樣稀釋至 1000ml（即體積分?jǐn)?shù)為 25%），則稀釋倍數(shù) D=4。
3.18 最低無效應(yīng)稀釋倍數(shù) lowest ineffective dilution
       測(cè)試中不產(chǎn)生測(cè)試效應(yīng)的最低稀釋倍數(shù)，本標(biāo)準(zhǔn)指不少于90%的斑馬魚卵存活時(shí)水樣的最低稀釋倍數(shù)，用LID表示。
4 水污染物排放控制要求
       4.1 新建企業(yè)自 2021 年 7 月 1 日起，現(xiàn)有企業(yè)自 2024 年 1 月 1 日起，執(zhí)行表 1 規(guī)定的水污染物排放限值及其他污染控制要求。

       4.3 新建和現(xiàn)有電子工業(yè)污水集中處理設(shè)施運(yùn)營(yíng)單位自 2024 年 1 月 1 日起，按照表 3 監(jiān)測(cè)廢水的綜合7毒性，每年監(jiān)測(cè)不少于一次，并將監(jiān)測(cè)結(jié)果報(bào)送當(dāng)?shù)厣鷳B(tài)環(huán)境主管部門。該項(xiàng)目為指導(dǎo)性指標(biāo)，運(yùn)營(yíng)單位根據(jù)監(jiān)測(cè)結(jié)果采取相應(yīng)的控制措施。

       4.4 水污染物排放限值適用于單位產(chǎn)品實(shí)際排水量不高于單位產(chǎn)品基準(zhǔn)排水量的情況。若單位產(chǎn)品實(shí)際排水量超過單位產(chǎn)品基準(zhǔn)排水量，須按公式（1）將實(shí)測(cè)水污染物濃度換算為水污染物基準(zhǔn)排水量排放濃度，并以水污染物基準(zhǔn)排水量排放濃度作為判定排放是否達(dá)標(biāo)的依據(jù)。產(chǎn)品產(chǎn)量和排水量統(tǒng)計(jì)周期為一個(gè)工作日。
       在企業(yè)的生產(chǎn)設(shè)施同時(shí)生產(chǎn)兩種以上產(chǎn)品，可適用不同排放控制要求或不同行業(yè)國(guó)家污染物排放標(biāo)準(zhǔn)，且生產(chǎn)設(shè)施產(chǎn)生的污水混合處理排放的情況下，應(yīng)執(zhí)行排放標(biāo)準(zhǔn)中規(guī)定的最嚴(yán)格的濃度限值，并按公式換算為水污染物基準(zhǔn)排水量排放濃度。

5 水污染物監(jiān)測(cè)要求
       5.1 企業(yè)應(yīng)按照有關(guān)法律和《環(huán)境監(jiān)測(cè)管理辦法》等規(guī)定，建立企業(yè)環(huán)境監(jiān)測(cè)制度，制定監(jiān)測(cè)方案，對(duì)污染物排放狀況及其對(duì)周邊環(huán)境的影響按要求開展自行監(jiān)測(cè)，保存原始監(jiān)測(cè)記錄。對(duì)于石油類、總氮、
陰離子表面活性劑、總有機(jī)碳、硫化物，重點(diǎn)排污單位的自行監(jiān)測(cè)頻次至少為每月一次，其他排污單位至少為每年一次。
       5.2 新建企業(yè)和現(xiàn)有企業(yè)安裝污染物排放自動(dòng)監(jiān)控設(shè)備的要求，按有關(guān)法律和《污染源自動(dòng)監(jiān)控管理辦法》的規(guī)定執(zhí)行。重點(diǎn)排污單位應(yīng)當(dāng)安裝重點(diǎn)水污染物排放自動(dòng)監(jiān)測(cè)設(shè)備，與生態(tài)環(huán)境主管部門的監(jiān)控設(shè)備聯(lián)網(wǎng)，并保障監(jiān)測(cè)設(shè)備正常運(yùn)行。
       5.3 水污染物的監(jiān)測(cè)采樣點(diǎn)的設(shè)置與采樣方法按 HJ 91.1、HJ 493、HJ 494、HJ 495 的規(guī)定執(zhí)行。企業(yè)應(yīng)按照環(huán)境監(jiān)測(cè)管理規(guī)定和技術(shù)規(guī)范的要求，設(shè)計(jì)、建設(shè)、維護(hù)永久性采樣口（排污口）、采樣測(cè)試平
臺(tái)。
       5.4 企業(yè)產(chǎn)品產(chǎn)量的核定，應(yīng)以法定報(bào)表為依據(jù)。
       5.5 對(duì)企業(yè)排放水污染物濃度的測(cè)定采用表 4 所列的方法標(biāo)準(zhǔn)。

       5.6 除表 4 所列的方法標(biāo)準(zhǔn)外，本標(biāo)準(zhǔn)實(shí)施后發(fā)布的其他污染物監(jiān)測(cè)方法標(biāo)準(zhǔn)，如明確適用于本行業(yè)，也可采用該監(jiān)測(cè)方法標(biāo)準(zhǔn)。
6 污水排放口規(guī)范化要求
       6.1 污水排放口和采樣點(diǎn)的設(shè)置應(yīng)符合 HJ 91.1 的規(guī)定。
       6.2 應(yīng)按照 GB 15562.1 和《關(guān)于印發(fā)排放口標(biāo)志牌技術(shù)規(guī)格的通知》的有關(guān)規(guī)定，在污水排放口或采樣點(diǎn)附近醒目處設(shè)置警告性污水排放口標(biāo)志牌，并長(zhǎng)久保留。10
7 實(shí)施與監(jiān)督
       7.1 本標(biāo)準(zhǔn)由縣級(jí)以上生態(tài)環(huán)境主管部門負(fù)責(zé)監(jiān)督實(shí)施。
       7.2 企業(yè)是實(shí)施排放標(biāo)準(zhǔn)的責(zé)任主體，在任何情況下，企業(yè)均應(yīng)遵守本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定的污染物排放控制要求，采取必要措施，保證污染防治設(shè)施正常運(yùn)行。各級(jí)生態(tài)環(huán)境主管部門在對(duì)企業(yè)進(jìn)行執(zhí)法檢查時(shí)，可以現(xiàn)場(chǎng)即時(shí)采樣或監(jiān)測(cè)的結(jié)果作為判定排污行為是否符合排放標(biāo)準(zhǔn)以及實(shí)施相關(guān)生態(tài)環(huán)境保護(hù)管理措施的依據(jù)。
       7.3 重點(diǎn)排污單位應(yīng)在廠區(qū)門口等公眾易于監(jiān)督的位置設(shè)置電子顯示屏，按照《企業(yè)事業(yè)單位環(huán)境信息公開辦法》向社會(huì)實(shí)時(shí)公布水污染物在線監(jiān)測(cè)數(shù)據(jù)和其他環(huán)境信息。
       7.4 與污水排放口有關(guān)的計(jì)量裝置、監(jiān)控裝置、標(biāo)志牌、環(huán)境信息公開設(shè)施等，均按生態(tài)環(huán)境保護(hù)設(shè)施進(jìn)行監(jiān)督管理。企業(yè)應(yīng)建立專門的管理制度，安排專門的人員，開展建設(shè)、管理和維護(hù)，任何單位不得擅自拆除、移動(dòng)和改動(dòng)。

附 錄 A
（規(guī)范性附錄）
電子專用材料涵蓋的產(chǎn)品范圍

       本標(biāo)準(zhǔn)中電子專用材料涵蓋的產(chǎn)品如下：
       A.1 電子功能材料
       A.1.1 半導(dǎo)體材料：?jiǎn)尉Ч璋簦ㄆ尉фN、砷化鎵等。
       A.1.2 光電子材料：發(fā)光二極管（LED）用藍(lán)寶石基片，液晶顯示器件（LCD）、有機(jī)發(fā)光二極管顯示器件（OLED）、非線性晶體等所用的材料等。
       A.1.3 壓電晶體材料：石英晶棒及晶片、鈮酸鋰晶棒及晶片、鉭酸鋰晶棒及晶片、頻率片等。
       A.1.4 電子功能陶瓷材料：電容器陶瓷材料等。
       A.1.5 鋁電解電容器電極箔：未化成電極箔、化成電極箔等。
       A.2 互聯(lián)與封裝材料
       A.2.1 覆銅板：剛性覆銅板、撓性覆銅板、金屬基覆銅板、印制電路用粘結(jié)片等。
       A.2.2 電子銅箔：印制電路用電解銅箔、壓延銅箔、合金箔等。
       A.3 工藝與輔助材料
       A.3.1 主要包括電子漿料等。